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畑田 元義; 西井 正信; 広田 鋼蔵*
Journal of Colloid and Interface Science, 45(3), p.502 - 506, 1973/03
被引用回数:18気/水界面におけるオクタデシルアクリレート(ODA)単分子膜の放射線重合の研究を自記式LANGMUIR型表面圧測定装置を用いて研究した。単分子膜は、窒素/水または空気/水界面においてVan de Graaff加速器の電子線によって照射され、照射前後の表面圧曲線の変化から反応を追跡した。ODA単分子膜は窒素/水界面においては重合してポリオクタデシルアクリレート(PODA)単分子膜の表面圧-面積曲線に似たそれを与えた。一方、空気/水界面においてはPODA単分子膜のそれとは著しく異る表面圧-面積曲線が得られ、PODAを生じないことが見出された。